Browse by Person

Number of items: 2.

Арутюнян, С. Р. and Карапетян, В. Е. and Бадалян, Г. Р. and Кузанян, А. С. (2006) Некоторые особенности лазерного напыления пленок YBCO на подложки LiNbO3. ՀՀ ԳԱԱ Տեղեկագիր: Տեխնիկական գիտություններ, 59 (1). pp. 190-194. ISSN 0002-306X

Кузанян, А. С. and Арутюнян, С. Р. and Гюламирян, А. Л. and Ованесян, К. Л. (1999) Синтез Bi-содержащих высокотемпературных сверхпроводящих пленок на подложках CaNdAIO4. ՀՀ ԳԱԱ Տեղեկագիր: Տեխնիկական գիտություններ, 52 (1). pp. 24-28. ISSN 0002-306X

This list was generated on Mon Mar 8 22:23:18 2021 AMT.

ՀՀ ԳԱԱ եւ ՀՊՃՀ Տեղեկագիր. Տեխնիկական գիտություններ =Proceedings of the NAS RA and SEUA: Technical Sciences կիրառում է «Ստեղծագործական համայնքներ» հեղինակային իրավունքի արտոնագիրը համաձայն որի հեղինակները պահպանում են իրենց հոդվածների հեղինակային սեփականության իրավունքը, ինչպես նաև հեղինակը թույլ է տալիս ցանկացած անձի բեռնաթափել, օգտագործել, վերատպել, ձևափոխել, տարածել հոդվածները այնքան ժամանակ, քանի դեռ հոդվածի իրական հեղինակ(ներ)ի և սկզբնաղբյուրի վրա կատարվում է հղում։ Հիմնական դեպքերում սույն արտոնագրի սկզբունքը կարող է իրականացվել պարզ մեջբերման տեսքով: Արտոնագրման սույն տեսակը նախագծվել է որպեսզի հեշտացվի բաց մատչելիության հրատարակչական մոդելի տարածումը: Գիտական աշխատանքների համար կիրառելով արտոնագրման այս մոդելը, ստեղծվում են նախապայմաններ հրապարակումները ազատորեն հասանելի դարձնելու հանրությանը

ՀՀ ԳԱԱ եւ ՀՊՃՀ Տեղեկագիր. Տեխնիկական գիտություններ =Proceedings of the NAS RA and SEUA: Technical Sciences applies the Creative Commons Attribution License (CCAL) to all works we publish. Under the CCAL, authors retain ownership of the copyright for their article, but authors allow anyone to download, reuse, reprint, modify, distribute, and/or copy articles, so long as the original authors and source are cited. In most cases, appropriate attribution can be provided by simply citing the original article. This broad license was developed to facilitate open access to, and free use of, original works of all types. Applying this standard license to your own work will ensure your right to make your work freely and openly available.